出售 8-9成新 DKM-4S晶體雙面拋光機研磨機
磨盤直徑：270*110*20MM
最大加工：60MM
加工件平面度：0.002MM
游星輪：50MM
游星輪數量：6個
最薄研磨：0.035MM
主機功率：研磨：0.75MM 拋光：1.1MM
磨盤轉速：0-60
砂泵功率：0.09
流砂形式：循環或點滴
外形尺寸：650*800*1700MM
重量：560KG
適用于鐵氧體，高頻晶片，硅片，石英晶體，玻璃，陶瓷，藍寶石，密封件雙面拋光或研磨
主要用途：
廣泛用于LED藍寶石襯底、光學玻璃晶片、石英晶片、陶瓷、硅片、諸片、模具、導光板、不銹鋼，光扦接頭等各種材料的單面研磨、拋光。
工作原理：
本平面拋光機為精密研磨拋光設備，被磨、拋材料放于研磨盤上，研磨盤逆時鐘轉動，修正輪帶動工件自轉，重力加壓的方式對工件施壓，工件與研磨盤作相對運轉磨擦，來達到研磨拋光目的。
特點：
1．采用間隔式自動噴液裝置，可自由設定噴液間隔時間。
2. 該拋光機工件加壓采用氣缸加壓的方式，壓力可調； 拋光后工件表面光亮度高、無劃傷、無料紋、無麻點、不塌邊、平面度高等特點。拋光后工件表面粗糙度可達到Ra0.0002；平面度可控制在±0.002mm范圍內。
3．該拋光機采用PLC程控系統，觸摸屏操作面板，研磨盤轉速與定時可直接在觸摸屏上輸入。
機器拋光：機器拋光是靠切削質料外貌塑性變形去失被拋光后的凸部而得到膩滑面的拋光要領，一樣通常利用油石條、羊毛輪、砂紙，砂帶，尼龍輪等，以手工操縱為主，特別零件如反轉展轉體外形，可利用轉臺等幫助工具，外貌質量要求高的可接納超精研拋的要領。超精研拋是接納磨料特制的磨具，在含有磨料的研拋液中，緊壓在工件被加工外形上，作高速旋轉活動。是拋光要領中最高的。光學鏡片模具常接納這種要領。
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