工廠低轉讓產線用 8-9成新宇晶9S 13S鏡面雙面拋光平磨機
主要用途：
廣泛用于LED藍寶石襯底、光學玻璃晶片、石英晶片、陶瓷、硅片、諸片、模具、導光板、不銹鋼，光扦接頭等各種材料的單面研磨、拋光。
工作原理：
本平面拋光機為精密研磨拋光設備，被磨、拋材料放于研磨盤上，研磨盤逆時鐘轉動，修正輪帶動工件自轉，重力加壓的方式對工件施壓，工件與研磨盤作相對運轉磨擦，來達到研磨拋光目的。
特點：
1．采用間隔式自動噴液裝置，可自由設定噴液間隔時間。
2. 該拋光機工件加壓采用氣缸加壓的方式，壓力可調； 拋光后工件表面光亮度高、無劃傷、無料紋、無麻點、不塌邊、平面度高等特點。拋光后工件表面粗糙度可達到Ra0.0002；平面度可控制在±0.002mm范圍內。
3．該拋光機采用PLC程控系統，觸摸屏操作面板，研磨盤轉速與定時可直接在觸摸屏上輸入。
技術參數：
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型 號 |
9B |
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研磨盤(外徑×內徑) |
￠610mm×￠210mm |
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修正輪(外徑×內徑) |
￠280mm×￠240mm,3個 |
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工件最大加工尺寸 |
￠220mm, |
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工件加工平度 |
0.001 mm（￠220mm,） |
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主電機功率 |
2.2KW,380V,3相 |
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研磨盤轉數 |
0-80RPM |
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加壓氣缸數量 |
3個 |
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氣缸最大加壓 |
90kg |
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外形尺寸 |
1500mm×900mm×2100mm |
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設備重量 |
1300kg |
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